FUJIFILM Kameraobjektiv XF55-200mmF3.5-4.8 R LM OIS FUJINON Schwarz [FUJIFILM X / Zoomobjektiv]

Produktspezifikationen

Grundinformation

Produkteigenschaften

Eine gründliche Korrektur der chromatischen Aberration und die Reduzierung von Streulicht und Geisterbildern sorgen für eine hohe Auflösung über den gesamten Zoombereich, sogar bis an den Bildrand. Dies ist das erste vollwertige Telezoomobjektiv der „X Mount“-Serie, das den Bereich von 84 mm am Weitwinkelende bis 305 mm am Teleende (entspricht einer 35-mm-Filmkamera) mit einem einzigen Objektiv abdeckt.

- Dank des fortschrittlichen optischen Designs kann das Objektiv den Bereich von 84 mm im Weitwinkelbereich bis 305 mm im Telebereich (entspricht einer Kleinbildkamera) mit einer maximalen Blendenöffnung von f/3,5-4,8 abdecken. Mit einem Filterdurchmesser von 62 mm und einem Gewicht von 580 g ist das Objektiv kompakt und leicht und bietet sowohl Mobilität als auch Abbildungsleistung auf hohem Niveau.

- Ausgestattet mit einem Bildstabilisierungsmechanismus für eine Verschlusszeit von 4,5 Stufen. Er erkennt und kompensiert ein breites Spektrum an Unschärfen, von langsamen, niederfrequenten Unschärfen bis hin zu feinen, hochfrequenten Unschärfen, und bietet ein hohes Maß an Korrektur.

Zwei Linearmotorantriebe ermöglichen einen Hochgeschwindigkeits-AF in nur 0,28 Sekunden (gemäß den Richtlinien der CIPA (Camera & Imaging Products Association)). Die Kamera ist außerdem leise und eignet sich daher für Filmaufnahmen.

- Es werden zwei ED-Linsen verwendet, darunter eine „Super-ED-Linse“ mit einer Leistung, die mit Fluoritlinsen mit überlegener optischer Leistung vergleichbar ist. Diese Linsen bieten eine hervorragende Korrektur der chromatischen Aberration (Unschärfe von Bildern und Farbunschärfe, die durch die Eigenschaften jeder Wellenlänge des Lichts verursacht wird), die im Bereich langer Brennweiten auftritt, und liefern im gesamten Zoombereich eine hohe Auflösung bis in die Ecken des Bildes.

Das firmeneigene HT-EBC-Mehrschichtbeschichtungsverfahren (High Transmittance Electron Beam Coating) von FUJINON wird auf beiden Seiten aller Linsen angewendet. HT-EBC (High Transmittance Electron Beam Coating) wird auf beiden Seiten aller Linsen verwendet, um eine hervorragende Antireflexion zu gewährleisten und Streulicht und Geisterbilder zu reduzieren.

Minimale Fokussierentfernung von 1,1 m über den gesamten Zoombereich. So können Sie Nahaufnahmen machen, die nur mit Teleobjektiven möglich sind und bei denen Sie einen großen Teil des Motivs erfassen können.

- Am Objektivtubus ist ein Blendenring mit 1/3 EV-Schritten angebracht. Mit der Kamera an Ort und Stelle können Sie Belichtung und Schärfentiefe mit der linken Hand präzise steuern.

- Für eine hochwertige Haptik und Robustheit werden bei Fokussierring und Blendenring Metallteile verwendet.

*Zeitgleich mit der Markteinführung wird eine neue Firmware für FUJIFILM X-Pro1 und FUJIFILM X-E1 veröffentlicht.
Diese Firmware enthält einen neuen Algorithmus zur schnelleren Fokuspositionserkennung während des AF über den gesamten Zoombereich und Aufnahmeentfernungsbereich. In Kombination mit dem „FUJINON-Objektiv XF55-200mmF3.5-4.8 R LM OIS“ erreicht die neue Firmware die schnellste AF-Geschwindigkeit von 0,7 Sekunden, selbst wenn die Fokusposition über den gesamten Aufnahmeentfernungsbereich am Teleende erkannt wird. Die AF-Geschwindigkeit ist auch mit allen anderen FUJINON XF-Objektiven schneller (*1).
Sie können die verbesserte AF-Leistung erleben, indem Sie diese Firmware von der Fujifilm-Website (*1) herunterladen und aktualisieren.
*1: Zur Verwendung des Objektivs ist ein Firmware-Update erforderlich. Firmware für andere Objektive als das „FUJINON-Objektiv XF55-200mmF3.5-4.8 R LM OIS“ wird im Juli oder später verfügbar sein.